Semicera Energy Technology Co., Ltd. ist ein führender Anbieter von fortschrittlichen Halbleiterkeramiken. Unsere Hauptprodukte sind: Siliziumkarbid-Geätzscheiben, Siliziumkarbid-Boot-Trailer, Siliziumkarbid-Waferschiffe (PV & Semiconductor), Siliziumkarbid-Ofenrohre, Siliziumkarbid-Kanälberpaddel, Siliziumkarbid-Spanner, Siliziumkarbid-Strahler sowie CVD SiC-Beschichtungen und TaC-Beschichtungen.
Die Produkte werden hauptsächlich in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie, wie Kristallwachstum, Epitaxie, Ätzen, Verpackungen, Beschichtungs- und Diffusionsofenanlagen, eingesetzt.
Unser Unternehmen bietet SiC-Beschichtungsverfahren nach CVD-Methode an der Oberfläche von Graphit, Keramik und anderen Materialien, so dass spezielle Gase, die Kohlenstoff und Silizium enthalten, bei hoher Temperatur reagieren, um hochreine SiC-Moleküle zu erhalten, auf der Oberfläche der beschichteten Materialien abgeschiedene Moleküle, die SIC-Schutzschicht bilden.
ANHANG Hohe Temperatur-Oxidationsbeständigkeit: Die Oxidationsbeständigkeit ist noch sehr gut, wenn die Temperatur so hoch ist wie 1600 C.
2. Hohe Reinheit: durch chemische Aufdampfung unter hoher Temperatur Chlorierung Zustand hergestellt.
3. Erosionsbeständigkeit: hohe Härte, kompakte Oberfläche, feine Partikel.
4. Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.
SiC-CVD Eigenschaften | ||
Kristallstruktur | FCC β-Phase | |
Dichte | g/cm 3 | 3.21 |
Härte | Vickers Härte | 2500 |
Grain Size | μm | 2~10 |
Chemische Reinheit | % | 99.99995 |
Wärmekapazität | K-1 | 640 |
Sublimationstemperatur | °C | 2700 |
Felexural Kraft | MPa (RT 4-Punkt) | 415 |
Young’s Modulus | Gpa (4pt Biegung, 1300°C) | 430 |
Thermische Expansion (C.T.E) | 10-6K-1 | 4.5 |
Wärmeleitfähigkeit | (W/mK) | 300 |
Semicera Semiconductor integriert F&E und Produktion mit zwei Forschungszentren und drei Produktionsstätten, die 50 Produktionslinien und über 200 Mitarbeiter unterstützen.
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