Siliziumkarbid SiC-beschichtete Heizelemente

Silikoncarbid-Heizung wird mit Metalloxid, d.h. Ferninfrarot-Siliziumcarbid-Platte als Strahlungselement, im Elementloch (oder Nut) in den elektrischen Heizdraht beschichtet, im Boden der Siliziumkarbid-Platte dickere Isolation, feuerfestes, wärmeisolierendes Material setzen und dann auf der Metallschale installiert, kann der Anschluss zur Verbindung der Stromversorgung verwendet werden.

Wenn der ferninfrarote Strahl der Siliziumkarbidheizung auf das Objekt abstrahlt, kann er absorbieren, reflektieren und durchlaufen. Das erhitzte und getrocknete Material absorbiert in einer bestimmten Tiefe von inneren und Oberflächenmolekülen gleichzeitig eine selbsterwärmende Wirkung, so dass das Lösungsmittel oder Wassermoleküle gleichmäßig verdampfen und erhitzen, wodurch eine Verformung und qualitative Veränderung durch unterschiedliche Wärmedehnungsgrade vermieden wird, so dass das Aussehen des Materials, physikalische und mechanische Eigenschaften, Echtheit und Farbe erhalten bleiben.

Beschreibung

Unser Unternehmen bietet SiC-Beschichtungsverfahren nach CVD-Methode an der Oberfläche von Graphit, Keramik und anderen Materialien, so dass spezielle Gase, die Kohlenstoff und Silizium enthalten, bei hoher Temperatur reagieren, um hochreine SiC-Moleküle zu erhalten, auf der Oberfläche der beschichteten Materialien abgeschiedene Moleküle, die SIC-Schutzschicht bilden.

SiC Heizelement (17)Heizelement (22)SiC Heizelement (23)

Hauptmerkmale

ANHANG Hohe Temperatur-Oxidationsbeständigkeit:
die Oxidationsbeständigkeit ist noch sehr gut, wenn die Temperatur so hoch ist wie 1600 C.
2. Hohe Reinheit: durch chemische Aufdampfung unter hoher Temperatur Chlorierung Zustand hergestellt.
3. Erosionsbeständigkeit: hohe Härte, kompakte Oberfläche, feine Partikel.
4. Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

Hauptspezifikationen der CVD-SIC Beschichtung

SiC-CVD Eigenschaften

Kristallstruktur FCC β-Phase
Dichte g/cm 3 3.21
Härte Vickers Härte 2500
Grain Size μm 2~10
Chemische Reinheit % 99.99995
Wärmekapazität K-1 640
Sublimationstemperatur °C 2700
Felexural Kraft MPa (RT 4-Punkt) 415
Young’s Modulus Gpa (4pt Biegung, 1300°C) 430
Thermische Expansion (C.T.E) 10-6K-1 4.5
Wärmeleitfähigkeit (W/mK) 300
Semicera Work place
Semicera work place 2
Equipment machine
CNN processing, chemical cleaning, CVD coating
Semicera Ware House
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