SiC-beschichteter Suszeptor für Deep UV-LED

Semicera Energy Technology Co., Ltd. ist ein führender Anbieter von fortschrittlichen Halbleiterkeramiken. Unsere Hauptprodukte sind: Siliziumkarbid-Geätzscheiben, Siliziumkarbid-Boot-Trailer, Siliziumkarbid-Waferschiffe (PV & Semiconductor), Siliziumkarbid-Ofenrohre, Siliziumkarbid-Kanälberpaddel, Siliziumkarbid-Spanner, Siliziumkarbid-Strahler sowie CVD SiC-Beschichtungen und TaC-Beschichtungen.

Die Produkte werden hauptsächlich in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie, wie Kristallwachstum, Epitaxie, Ätzen, Verpackungen, Beschichtungs- und Diffusionsofenanlagen, eingesetzt.

Unser Unternehmen bietet SiC-Beschichtungsverfahren nach CVD-Methode an der Oberfläche von Graphit, Keramik und anderen Materialien, so dass spezielle Gase, die Kohlenstoff und Silizium enthalten, bei hoher Temperatur reagieren, um hochreine SiC-Moleküle zu erhalten, auf der Oberfläche der beschichteten Materialien abgeschiedene Moleküle, die SIC-Schutzschicht bilden.

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Hauptmerkmale

ANHANG Hohe Temperatur-Oxidationsbeständigkeit: Die Oxidationsbeständigkeit ist noch sehr gut, wenn die Temperatur so hoch ist wie 1600 C.
2. Hohe Reinheit: durch chemische Aufdampfung unter hoher Temperatur Chlorierung Zustand hergestellt.
3. Erosionsbeständigkeit: hohe Härte, kompakte Oberfläche, feine Partikel.
4. Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

Hauptspezifikationen der CVD-SIC Beschichtung

SiC-CVD Eigenschaften
Kristallstruktur FCC β-Phase
Dichte g/cm 3 3.21
Härte Vickers Härte 2500
Grain Size μm 2~10
Chemische Reinheit % 99.99995
Wärmekapazität K-1 640
Sublimationstemperatur °C 2700
Felexural Kraft MPa (RT 4-Punkt) 415
Young’s Modulus Gpa (4pt Biegung, 1300°C) 430
Thermische Expansion (C.T.E) 10-6K-1 4.5
Wärmeleitfähigkeit (W/mK) 300
Semicera Work place
Semicera work place 2
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CNN processing, chemical cleaning, CVD coating
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