Suscepteur de plaquette

Wafer Susceptor est une composante essentielle du processus d'épitaxie. Semicera fournit d'excellentes solutions pour les processus Si Epitaxy et SiC Epitaxy par la conception et la fabrication de précision. Notre récepteur Wafer assure une distribution de chaleur uniforme pendant le processus d'épitaxie et améliore la qualité de dépôt de la couche de silicium monocristallin (silicium monocristallin). Il fonctionne bien dans différents types de suceurs MOCVD et de suceurs Barrel et convient à différents procédés de fabrication de semi-conducteurs.

SémiceraS Suscepteur Wafer est fait de matériaux à haute résistance avec une excellente résistance à haute température et à la corrosion, et peut rester stable pendant longtemps même dans des conditions complexes de processus épitaxique. Que ce soit dans les processus d'épitaxie Si Epitaxy ou SiC Epitaxy, Semicéras Susceptor peut fournir un support précis pour le contrôle de la température afin d'assurer la cohérence de qualité des wafers pendant la croissance épitaxie.

De plus, Semiceras Wafer Susceptor est également traité avec précision pour s'adapter à une variété d'équipements et de spécifications, en particulier dans les applications MCVD Susceptor et Barrel Susceptor. Avec une excellente sélection des matériaux et un contrôle des processus, nos produits améliorent non seulement l'efficacité de la production, mais réduisent également considérablement le taux de défaut et la consommation d'énergie dans le processus.

Pour les processus d'épitaxie extrêmement exigeants dans l'industrie des semi-conducteurs, le Suscepteur Wafer de Semikera est votre choix idéal. Que ce soit pour la R-D ou la production de masse, notre Wafer Susceptor peut aider les clients à obtenir une plus grande fiabilité et une meilleure structure cristalline dans les processus Si Epitaxy et SiC Epitaxy.