SiC coating carriers for semiconductor etching

Como um profissional fabricante chinês, fornecedor e exportador de Silicon Carbide revestimento cerâmico. O revestimento cerâmico do Carbide Silicon Carbide de Semeciera é amplamente utilizado em componentes-chave de equipamentos de fabricação de semicondutores, especialmente em processos de processamento como DCV e PECV. A Semicera está empenhada em fornecer tecnologia avançada e soluções de produtos para a indústria de semicondutores, e saúda a sua nova consulta.

Description

Our company provides SiC coating process services by CVD method on the surface of graphite, ceramics and other materials, so that special gases containing carbon and silicon react at high temperature to obtain high purity SiC molecules, molecules deposited on the surface of the coated materials, forming SIC protective layer.

Main Features

1. High temperature oxidation resistance:
the oxidation resistance is still very good when the temperature is as high as 1600 C.
2. High purity : made by chemical vapor deposition under high temperature chlorination condition.
3. Erosion resistance: high hardness, compact surface, fine particles.
4. Corrosion resistance: acid, alkali, salt and organic reagents.

Main Specifications of CVD-SIC Coating

SiC-CVD Properties
Estrutura de Cristal	FCC β phase
Density	g/cm ³	3.21
Hardness	Vickers hardness	2500
Grain Size	μm	2~10
Pureza química	%	99.99995
Capacidade térmica	J·kg-1 ·K-1	640
Temperatura de sublimação	℃	2700
Felexural Strength	MPa (RT 4-point)	415
Módulo de Young’s	Gpa (4pt bend, 1300℃)	430
Thermal Expansion (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Thermal conductivity	(W/mK)	300